Dimeric quinacridone cyclophanes: Synthesis, structures, and photophysical properties
Dimeric quinacridone cyclophanes: Synthesis, structures, and photophysical properties
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二聚喹吖啶酮环芳烷：合成、结构和光物理性质
DOI：
10.1007/s11426-010-4194-6
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发表时间：
2011-03
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Wang Yue
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yu DingYi;Peng Tai;Javad, Iqbal;Zhang HongYu;Zhang JingYing;Wang Yue
设计并合成了两种具有分子内染料相互作用的新型喹吖酮环烷。x射线晶体结构以及详细的光物理性质都得到了很好的证明。这两种染料有一个主要优点，即即使在它们的稀溶液中也能观察到有效的荧光猝灭。二聚体QA环烷与对照单体QA环烷的光物理性质比较表明，在溶液中QA染料的荧光猝灭以二聚体为主。本研究提供了一些具有二聚体结构的QA衍生物模型，以了解QA染料在溶液中的荧光猝灭。
Two novel quinacridone (QA) cyclophanes with intrinsic intramolecular dye-dye interactions have been designed and synthesized. X-ray crystal structures as well as detailed photophysical properties have been well demonstrated. These two dyes have a major advantage that efficient fluorescence quenching can be observed even in their dilute solutions. A comparison of photophysical properties between the dimeric QA cyclophane and its reference monomeric counterpart indicates that the dimerization is predominant for the fluorescence quenching of QA dyes in solution. This study provided some model QA derivatives with dimeric structures for understanding the fluorescence quenching of QA dyes in solutions.
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影响因子：
4.9
作者：
T. V. Pho;P. Zalar;Andrés J. García;Thuc‐Quyen Nguyen;F. Wudl
通讯作者：
T. V. Pho;P. Zalar;Andrés J. García;Thuc‐Quyen Nguyen;F. Wudl
影响因子：
3.3
作者：
Dingyi Yu;Tai Peng;Hongyu Zhang;Hai Bi;Jingying Zhang;Yue Wang
通讯作者：
Dingyi Yu;Tai Peng;Hongyu Zhang;Hai Bi;Jingying Zhang;Yue Wang
影响因子：
1.6
作者：
H. Nakahara;Kiyoshi Kitahara;H. Nishi;K. Fukuda
通讯作者：
H. Nakahara;Kiyoshi Kitahara;H. Nishi;K. Fukuda
影响因子：
1.5
作者：
M. Hiramoto;Shuji Kawase Shuji Kawase-Shuji-Kawase;Masaaki Yokoyama Masaaki Yokoyama-Masaaki-Yokoyama
通讯作者：
M. Hiramoto;Shuji Kawase Shuji Kawase-Shuji-Kawase;Masaaki Yokoyama Masaaki Yokoyama-Masaaki-Yokoyama
DOI：
10.1021/la048538w
发表时间：
2004-08
期刊：
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
影响因子：
--
作者：
Z. Mu;Xunyu Yang;Zhiqiang Wang;Xi Zhang;Jinling Zhao;Zhishan Bo
通讯作者：
Z. Mu;Xunyu Yang;Zhiqiang Wang;Xi Zhang;Jinling Zhao;Zhishan Bo