対向ターゲットスパッタ法による高品質i-a-Si:H層の形成とシリコンヘテロ接合太陽電池への応用

対向ターゲットスパッタ法による高品質i-a-Si:H層の形成とシリコンヘテロ接合太陽電池への応用
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面向靶溅射法形成高质量i-a-Si:H层及其在硅异质结太阳能电池中的应用

DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
宮島晋介
宮島晋介
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
白取優大;宮島晋介

文献摘要

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