CHxFy+イオン照射によるエッチング反応の評価
CHxFy+イオン照射によるエッチング反応の評価
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CHxFy+离子照射的蚀刻反应评价
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
伊藤智子
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Y. Tsuboi;T. Shoji;M. Nishino;S. Masuda;K. Ishimori;N. Kitamura.;神崎正美・薛献宇;伊藤智子