Effect of Additional Oxygen for the Formation of Silicon Oxynitride Using Nitrogen Plasma Generated near Atmospheric Pressure
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附加氧气对利用近大气压产生的氮等离子体形成氮氧化硅的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ryoma Hayakawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Ohashi;M.Ishida;S.Sasaki;Y.Ishisaki;K.Mitsuda;et al.;Ryoma Hayakawa;Y. Kodama;Ryoma Hayakawa
