T.Iizuka, A.Onoda, T.Hoshide: "Molecular Dynamics Simulation on Microstructure and Deformation Properties Related to Porosity in Al Thin Film Sputtered on Si Substrate"JSMS International Journal, Series A. 44・2. 214-221 (2001)
T.Iizuka, A.Onoda, T.Hoshide: "Molecular Dynamics Simulation on Microstructure and Deformation Properties Related to Porosity in Al Thin Film Sputtered on Si Substrate"JSMS International Journal, Series A. 44・2. 214-221 (2001)
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T.Iizuka、A.Onoda、T.Hoshide：“与硅基板上溅射的铝薄膜中的孔隙率有关的微观结构和变形特性的分子动力学模拟”JSMS 国际期刊，系列 A. 44・21（2001）。
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