Microstructure and mechanical properties of physical vapor deposited Cu/W nanoscale multilayers: Influence of layer thickness and temperature
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DOI：
10.1016/j.tsf.2014.05.044
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发表时间：
2014-11
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
M. Monclús;M. Karlík;M. Callisti;E. Frutos;J. Llorca;T. Polcar;J. Molina-Aldareguia
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Monclús;M. Karlík;M. Callisti;E. Frutos;J. Llorca;T. Polcar;J. Molina-Aldareguia
