O.Nakatsuka, H.Onoda, E.Okada, H.Ikeda, A.Sakai, S.Zaima, Y.Yasuda: "Effect of Al interlayers on two-step epitaxial growth of CoSi_2 on Si(100)"Applied Surface Science. (掲載決定). (2003)
O.Nakatsuka, H.Onoda, E.Okada, H.Ikeda, A.Sakai, S.Zaima, Y.Yasuda: "Effect of Al interlayers on two-step epitaxial growth of CoSi_2 on Si(100)"Applied Surface Science. (掲載決定). (2003)
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O.Nakatsuka、H.Onoda、E.Okada、H.Ikeda、A.Sakai、S.Zaima、Y.Yasuda：“Al 中间层对 CoSi_2 在 Si(100) 上两步外延生长的影响”应用表面科学（决定出版）（2003）。
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