ClF3クラスタービームによる大面積Siエッチング技術(2)
ClF3クラスタービームによる大面積Siエッチング技術(2)
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使用ClF3簇束的大面积硅刻蚀技术（2）
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松尾二郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉野裕;妹尾武彦;小池国彦;瀬木利夫;青木学聡;松尾二郎
量子固体物理
DOI：
10.1007/978-3-642-50164-7
发表时间：
1989
期刊：
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影响因子：
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作者：
S. Vonsovsky;M. Katsnelson;M. Katsnelson
通讯作者：
M. Katsnelson
影响因子：
8.6
作者：
ABRAHAMS, E;ANDERSON, PW;RAMAKRISHNAN, TV
通讯作者：
RAMAKRISHNAN, TV