ポーラス・シリコンを用いた温度セル・アレイ
ポーラス・シリコンを用いた温度セル・アレイ
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使用多孔硅的温度单元阵列
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中里和郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
石原英明;山口賢;宇野重康;中里和郎
