Control of Schottky barrier height at metal/Ge interface by group-IV alloy interlayers
Control of Schottky barrier height at metal/Ge interface by group-IV alloy interlayers
复制标题
IV族合金中间层控制金属/Ge界面肖特基势垒高度
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Shigeaki Zaima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Suzuki;Osamu Nakatsuka;Shota Toda;Mitsuo Sakashita;and Shigeaki Zaima
