Nitride Devices Fabricated with Pulsed Sputtering Depositon
Nitride Devices Fabricated with Pulsed Sputtering Depositon
复制标题
用脉冲溅射沉积制造氮化物器件
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Hiroshi Fujioka
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
F. Bussolotti;J. Yang;A. Hinderhofer;S. Kera and N. Ueno;Hiroshi Fujioka
