Progress in control of nitriding potential in ASPN process
Progress in control of nitriding potential in ASPN process
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ASPN工艺渗氮势控制研究进展
DOI：
10.1179/1749514814z.000000000108
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Biermann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Burlacov;Börner;Biermann
不同渗氮参数对低合金钢活性屏等离子渗氮行为的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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作者：
S. Ahangarani;F. Mahboubi;A. Sabour
通讯作者：
A. Sabour
反应气体中流动放电和后放电的光谱学
DOI：
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发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
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作者：
A. Ricard
通讯作者：
A. Ricard
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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作者：
S. Konovalov;B. Clausen;F. Hoffmann;H. Zoch;U. Prahl;W. Bleck
通讯作者：
W. Bleck