Boron trichloride gas behaviour for chemical vapour deposition and etching at silicon surface
Boron trichloride gas behaviour for chemical vapour deposition and etching at silicon surface
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三氯化硼气体在硅表面化学气相沉积和蚀刻中的行为
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ayumi Saito and Hitoshi Habuka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mitsuko Muroi;Ayumi Saito and Hitoshi Habuka
