Growth of higher manganese silicides from amorphous manganese-silicon layers synthesized by ion implantation

Growth of higher manganese silicides from amorphous manganese-silicon layers synthesized by ion implantation
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由离子注入合成的非晶锰硅层生长高锰硅化物

DOI:
10.1016/j.nimb.2011.01.120
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发表时间:
2012
期刊:
Nucl. Instrum. Method B
影响因子:
--
通讯作者:
K. E. Sickafus
K. E. Sickafus
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
M. Naito;R. Nakanishi;N. Machida;T. Shigematsu;M. Ishimaru;J. A. Valdez;K. E. Sickafus

文献摘要

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