Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges
Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges
复制标题
反应式高功率脉冲溅射潘宁放电制备TiN薄膜
DOI：
10.7567/jjap.57.06je02
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发表时间：
2018
影响因子：
1.5
通讯作者：
S. Nakao
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kimura;R. Yoshida;K.Azuma;S. Nakao
