Y.Shimogaki,et al.: "How to Control the Silicon Contents in the Chemically Vapor Deposited WSix films" Proceedings of Eleventn International VLSI Multileved In tercounection Conference. 496-498 (1994)
Y.Shimogaki,et al.: "How to Control the Silicon Contents in the Chemically Vapor Deposited WSix films" Proceedings of Eleventn International VLSI Multileved In tercounection Conference. 496-498 (1994)
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Y.Shimogaki 等人：“如何控制化学气相沉积 WSix 薄膜中的硅含量”11 国际 VLSI 多级互联会议论文集。
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