Sn doped SiO2 thin film preparation by powder targets plasma process
Sn doped SiO2 thin film preparation by powder targets plasma process
复制标题
粉末靶材等离子体工艺制备Sn掺杂SiO2薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Masanori Shinohara
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hiroharu Kawasaki;Tamiko Ohshima;Yoshihito Yagyu;Takeshi Ihara;Masanori Shinohara
