T.Matsuura,et al.: "Layer-by-layer etching of Si by self-limited adsorption of chlorine with alternated irradiation of low enrgy Ar^+ ions" Ext.Abstr.Int.Conf.on Solid State Devices and Materials. 83-85 (1993)
T.Matsuura,et al.: "Layer-by-layer etching of Si by self-limited adsorption of chlorine with alternated irradiation of low enrgy Ar^+ ions" Ext.Abstr.Int.Conf.on Solid State Devices and Materials. 83-85 (1993)
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T.Matsuura 等人：“通过自限吸附氯并交替照射低能 Ar 离子来对 Si 进行逐层蚀刻”《固态器件和材料》Ext.Abstr.Int.Conf.on 固态器件和材料。
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