D.Ito, T.Yoshimura, N.Fujimura, and T.ito,: "Improvement of Y_2O_3/Si interface for FeRAM application"Appl.Sur.Sci.. 159. 138 (2000)
D.Ito, T.Yoshimura, N.Fujimura, and T.ito,: "Improvement of Y_2O_3/Si interface for FeRAM application"Appl.Sur.Sci.. 159. 138 (2000)
复制标题
D.Ito、T.Yoshimura、N.Fujimura 和 T.ito，“FeRAM 应用中 Y_2O_3/Si 界面的改进”Appl.Sur.Sci.. 159. 138 (2000)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
