Y.Hoshi and R.Ohki: "Low energy rf sputtering system for the deposition of LTO thin films."Electrochemica Acta. 44. 3927-3932 (1999)
Y.Hoshi and R.Ohki: "Low energy rf sputtering system for the deposition of LTO thin films."Electrochemica Acta. 44. 3927-3932 (1999)
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Y.Hoshi 和 R.Ohki：“用于沉积 LTO 薄膜的低能射频溅射系统。”电化学学报。
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