A.Morimoto, T.Shimizu 他3名: "Effect of nitrogen gas on preparation of Ti-Al-N thin films by pulsed laser ablation" Applied Surface Science. 127-129巻. 994-998 (1998)
A.Morimoto, T.Shimizu 他3名: "Effect of nitrogen gas on preparation of Ti-Al-N thin films by pulsed laser ablation" Applied Surface Science. 127-129巻. 994-998 (1998)
复制标题
A.Morimoto、T.Shimizu 等 3 人:“氮气对脉冲激光烧蚀制备 Ti-Al-N 薄膜的影响”,《应用表面科学》第 127-129 卷(1998 年)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: