スパッタリング法による可視光吸収性Ge/Nb_2O_5薄膜の作製
スパッタリング法による可視光吸収性Ge/Nb_2O_5薄膜の作製
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溅射法制备可见光吸收Ge/Nb_2O_5薄膜
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
阿部世嗣,星信夫,佐藤幸博
中科院分区：
文献类型：
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作者：
染川英俊;井上忠信;向井敏司;Nobuyoshi KOGA;斉藤直哉;S. Ohara;阿部世嗣,星信夫,佐藤幸博
