Plasma-assisted atomic layer deposition of germanium antimony tellurium compounds
Plasma-assisted atomic layer deposition of germanium antimony tellurium compounds
复制标题
锗锑碲化合物的等离子体辅助原子层沉积
DOI：
10.1116/1.5003463
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Lisker
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Silinskas;B. Kalkofen;R. Balasubramanian;A. Batmanov;E. P. Burte;N. Harmgarth;F. Zörner;F. T. Edelmann;B. Garke;M. Lisker
