電子ビーム蒸着法により作製したMgB2薄膜におけるピンニング特性の印加磁場角度依存性
電子ビーム蒸着法により作製したMgB2薄膜におけるピンニング特性の印加磁場角度依存性
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施加磁场角度对电子束蒸发制备 MgB2 薄膜钉扎特性的依赖性
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
春田正和 他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Fujiyoshi et al.;T.Sueyoshi et al.;T.Sueyoshi et al.;H.Haruta et al.;M.Haruta et al.;春田正和 他
