The influence of inelastic scattering on EFTEM images--exemplified at 20 kV for graphene and silicon.

The influence of inelastic scattering on EFTEM images--exemplified at 20 kV for graphene and silicon.
复制标题

非弹性散射对 EFTEM 图像的影响——以 20 kV 下石墨烯和硅为例。

DOI:
--
复制
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
2.2
通讯作者:
U. Kaiser
U. Kaiser
中科院分区:
工程技术3区
文献类型:
--
作者:
Z. Lee;H. Rose;R. Hambach;P. Wachsmuth;U. Kaiser

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: 10.1016/j.ultramic.2011.03.012
发表时间: 2011-07-01
期刊: ULTRAMICROSCOPY
影响因子: 2.2
作者:
Kaiser, U.;Biskupek, J.;Benner, G.
通讯作者: Benner, G.