国際特許管理の日本的展開―GEと東芝の提携による生成と発展

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日本国际专利管理的发展:GE与东芝的合作创造和发展

DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
西村成弘
西村成弘
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Gabriel Galvez-Behar;Shigehiro Nishimura;Shigehiro Nishimura;Shigehiro Nishimura;Shigehiro Nishimura;橋本理;西村成弘;橋本理;西村成弘;柿澤寿信;橋本理;柿澤寿信;Shigehiro Nishimura;北島健一・橋本理・金子勝規・岩満賢次・柴田学;Shigehiro Nishimura;橋本理;橋本理;Shigehiro Nishimura;Shigehiro Nishimura;橋本理;西村成弘

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