Diamond chemical vapor deposition using a zero-total gas flow environment
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DOI：
10.1016/j.diamond.2020.108011
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发表时间：
2020-07
影响因子：
4.1
通讯作者：
Alex Croot;E. Mahoney;H. Dominguez-Andrade;M. Ashfold;N. Fox
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Alex Croot;E. Mahoney;H. Dominguez-Andrade;M. Ashfold;N. Fox
