Quantitative analysis of atomic disorders in full-Heusler Co_2FeSi alloy thin films using x-ray diffraction with Co Kα and Cu Kα sources
Quantitative analysis of atomic disorders in full-Heusler Co_2FeSi alloy thin films using x-ray diffraction with Co Kα and Cu Kα sources
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使用 Co Kα 和 Cu Kα 源的 X 射线衍射对全 Heusler Co_2FeSi 合金薄膜中的原子无序进行定量分析
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Satoshi Sugahara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yota Takamura;Ryosyo Nakane;Satoshi Sugahara
