Comparison between Ar+CH4 cathode and anode coupling chemical vapor depositions of hydrogenated amorphous carbon films
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DOI：
10.1016/j.tsf.2021.138701
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发表时间：
2021-04
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
S. Hwang;R. Iwamoto;T. Okumura;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;T. Nakatani;M. Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Hwang;R. Iwamoto;T. Okumura;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;T. Nakatani;M. Shiratani
