tic Electro-Deposition of Thin Si, Ge, and SiGe Films
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复制标题
Si、Ge 和 SiGe 薄膜的 tic 电沉积
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Shirakashi and N. Koshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Suda;M. Ito;M. Yagi;A. Kojima;R. Mentek;N. Mori;J. Shirakashi and N. Koshida
