大気圧プラズマCVD法を用いた(-201)β-Ga2O3薄膜のホモエピタキシャル成長
大気圧プラズマCVD法を用いた(-201)β-Ga2O3薄膜のホモエピタキシャル成長
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常压等离子体CVD法同质外延生长(-201)β-Ga2O3薄膜
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤村紀文
中科院分区：
文献类型：
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作者：
木口拓也;野瀬幸則;上原剛;藤村紀文
