吉武 剛、永元達也、白石豪介、永山邦仁: "レーザーアブレーション法による環境考慮型半導体β-FeSi_2薄膜の作成とその微細構造"九州大学総合理工学研究科報告. 21,3. 247-256 (1999)
吉武 剛、永元達也、白石豪介、永山邦仁: "レーザーアブレーション法による環境考慮型半導体β-FeSi_2薄膜の作成とその微細構造"九州大学総合理工学研究科報告. 21,3. 247-256 (1999)
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Tsuyoshi Yoshitake、Tatsuya Nagamoto、Gosuke Shiraishi、Kunihito Nagayama：“激光烧蚀法制备环保半导体β-FeSi_2薄膜及其微观结构”九州大学理工学院报告21，3（1999）。 ）
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