Structural and Electrical Properties of Mg-Si Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering Deposition
Structural and Electrical Properties of Mg-Si Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering Deposition
复制标题
射频磁控溅射沉积镁硅薄膜的结构和电学性能
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J. Tani and H. Kido
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
足立振一郎;上田順弘;J. Tani and H. Kido
