Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge

Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge
复制标题

氧化物材料对电容耦合放电产生高密度等离子体的影响

DOI:
--
复制
发表时间:
2006
期刊:
Thin Solid Films 506-507
影响因子:
--
通讯作者:
H.Fujita
H.Fujita
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Y.Ohtsu;T.Shimazoe;T.Misawa;H.Fujita

文献摘要

相似文献