A comparison of ultra-thin SiO_2 films formed by hyperthermal O-atom beam and rapid thermal oxidation; synchrotron radiation photoemission and crystal truncation rod scattering study
A comparison of ultra-thin SiO_2 films formed by hyperthermal O-atom beam and rapid thermal oxidation; synchrotron radiation photoemission and crystal truncation rod scattering study
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高温O原子束与快速热氧化形成超薄SiO_2薄膜的比较
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Shimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Tagawa;K.Yokota;A.Yoshigoe;Y.Teraoka;T.Shimura
