ホスフィンオキシドが創る高配位ケイ素複合体を利用した不斉アルドール反応の開発
ホスフィンオキシドが創る高配位ケイ素複合体を利用した不斉アルドール反応の開発
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利用氧化膦产生的高度配位硅配合物开发不对称羟醛反应
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小谷俊介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉原勇作;小谷俊介;中島誠;小谷俊介
