High-temperature in-situ cross-sectional TEM investigation of crystallization process of YSZ/Si thin films
High-temperature in-situ cross-sectional TEM investigation of crystallization process of YSZ/Si thin films
复制标题
YSZ/Si薄膜结晶过程的高温原位截面TEM研究
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Nobuyasu MIZUTANI
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takanori KIGUCHI;Naoki WAKIYA;Kazuo SHINOZAKI;Nobuyasu MIZUTANI
