Helium-charged LaNiAl films deposited by DC megnetron sputtering
Helium-charged LaNiAl films deposited by DC megnetron sputtering
复制标题
直流磁控溅射沉积充氦 LaNiAl 薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
--
影响因子：
0.9
通讯作者：
Zhuying Zhou
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Liqun Shi;Demin Chen;Shilin Xu;Chaozhu Liu;Wanli Hao;Zhuying Zhou
