石倉 洋: "プラズマプロセシング用低電子温度・高密度プラズマの生成" 電気学会研究会資料プラズマ研究会. EPー91. 21-29 (1991)
石倉 洋: "プラズマプロセシング用低電子温度・高密度プラズマの生成" 電気学会研究会資料プラズマ研究会. EPー91. 21-29 (1991)
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Hiroshi Ishikura：“用于等离子体处理的低电子温度、高密度等离子体的生成”日本电气工程师学会等离子体研究组的材料 EP-91 (1991)。
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