Surface damage induced by focused-ion-beam milling in a Si/Si p–n junction cross-sectional specimen
Surface damage induced by focused-ion-beam milling in a Si/Si p–n junction cross-sectional specimen
复制标题
聚焦离子束铣削 Si/Si p-n 结横截面样品引起的表面损伤
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Saka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhouguang Wang;T. Kato;T. Hirayama;N. Kato;K. Sasaki;H. Saka
