Bias-application in Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy for Characterization of Advanced Materials
Bias-application in Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy for Characterization of Advanced Materials
复制标题
硬 X 射线光电子能谱中的偏置应用用于先进材料的表征
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Kobayashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Yamashita;H. Yoshikawa;T. Chikyo;and K. Kobayashi
