C-H.Shon, T.Makabe: "Modeling of N2/H2 plasma for low k material etching in a capacitively coupled plasma device"Proc.of IEEE Int.Conf., ICOPS 2003. (2003)
C-H.Shon, T.Makabe: "Modeling of N2/H2 plasma for low k material etching in a capacitively coupled plasma device"Proc.of IEEE Int.Conf., ICOPS 2003. (2003)
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C-H.Shon、T.Makabe：“电容耦合等离子体装置中用于低 k 材料蚀刻的 N2/H2 等离子体建模”Proc.of IEEE Int.Conf.，ICOPS 2003。(2003)
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