T. Taishi, X. Huang, T. Wang, I. Yonenaga, and K. Hoshikawa: "Behavior of dislocations due to thermal shock in B-doped Si seed in Czochralski Si crystal growth"Journal of Crystal Growth. 241. 277-282 (2002)
T. Taishi, X. Huang, T. Wang, I. Yonenaga, and K. Hoshikawa: "Behavior of dislocations due to thermal shock in B-doped Si seed in Czochralski Si crystal growth"Journal of Crystal Growth. 241. 277-282 (2002)
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T. Taishi、X. Huang、T. Wang、I. Yonenaga 和 K. Hoshikawa：“直拉硅晶体生长中硼掺杂硅籽晶中热冲击引起的位错行为”晶体生长杂志。
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