Lamp annealing effects on the formation process of implanted silicon nanocrystals in SiO_2.
Lamp annealing effects on the formation process of implanted silicon nanocrystals in SiO_2.
复制标题
灯退火对SiO_2中注入硅纳米晶形成过程的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.S.Iwayama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Ariake;T.Chiba;N.Honda;J.Ariake;有明 順;J.Ariake;有明 順;有明 順;J.Ariake;J.Ariake;J.Ariake;J.Ariake;有明 順(共著);J.Ariake (one of the coauthors);有明 順;T.S.Iwayama
