Characterization of (Ti1−xAlx)N films prepared by radio frequency reactive magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/s0955-2219(99)00200-9
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发表时间：
2000-05
影响因子：
5.7
通讯作者：
J. Rauch;C. Rousselot;N. Martin;C. Jacquot;J. Takadoum
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Rauch;C. Rousselot;N. Martin;C. Jacquot;J. Takadoum
