真空紫外光照射によるSi/SiO2界面構造の改質
真空紫外光照射によるSi/SiO2界面構造の改質
复制标题
真空紫外光照射对Si/SiO2界面结构的改性
DOI：
--
复制
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
野崎眞次
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
山崎政宏;小泉淳;小野洋;内田和男;野崎眞次
