Toshinori Taishi: "Dislocation-free Czochralski Si Crystal Growth without the Dash-Necking Process : Growth from Undoped Si melt"Japanese Journal of Applied Physics. 39. L192-L194 (2000)
Toshinori Taishi: "Dislocation-free Czochralski Si Crystal Growth without the Dash-Necking Process : Growth from Undoped Si melt"Japanese Journal of Applied Physics. 39. L192-L194 (2000)
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Toshinori Taishi：“无需短颈缩过程的无位错直拉硅晶体生长：从未掺杂的硅熔体中生长”日本应用物理学杂志。
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