Y. Ozaki: "preparation of feroelectric films and Its chemicals, in survey of 3 dimensional micro processing technology"(2000)
Y. Ozaki: "preparation of feroelectric films and Its chemicals, in survey of 3 dimensional micro processing technology"(2000)
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Y.Ozaki：“铁电薄膜及其化学品的制备，3维微加工技术的调查”（2000）
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非相互作用热电子 3d 等离子体线性 Mhd 稳定性的变分公式
影响因子：
2.2
作者：
A. Cooper
通讯作者：
A. Cooper
Heliotron E 装置中无电流、高 β 等离子体的研究
影响因子：
3.3
作者：
O. Motojima;F. Sano;M. Sato;H. Kaneko;H. Zushi;S. Sudo;S. Besshou;A. Sasaki;K. Kondo;T. Mutoh;T. Mizuuchi;H. Okada;M. Iima;T. Baba;K. Hanatani;J. Harris;M. Wakatani;T. Obiki;A. Iiyoshi;K. Uo
通讯作者：
K. Uo
S. Sudo、Y. Nagayama、M. Emoto、M. Goto、Y. Hamada、K. Ida、T. Ido、H. Iguchi、S. Inagaki、M. Isobe、K. Kawahata、K. KMopenkov、S.
DOI：
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期刊：
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作者：
通讯作者：
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影响因子：
3.3
作者：
A. Gibson;T. Sekiguchi;K. Lackner;S. Bodner;R. Hancox
通讯作者：
A. Gibson;T. Sekiguchi;K. Lackner;S. Bodner;R. Hancox
Heliotron-E 中高β、无电流等离子体的磁流体动力学活动
影响因子：
8.6
作者：
J. Harris;O. Motojima;H. Kaneko;S. Besshou;H. Zushi;M. Wakatani;F. Sano;S. Sudo;A. Sasaki;K. Kondo;M. Sato;T. Mutoh;T. Mizuuchi;M. Iima;T. Obiki;A. Iiyoshi;K. Uo
通讯作者：
K. Uo