Resonance Raman process and photo-induced phase transition via 632.8 nm irradiation for diacetylene monocarboxylic acid derivative self-assembled layers on Ag surfaces
Resonance Raman process and photo-induced phase transition via 632.8 nm irradiation for diacetylene monocarboxylic acid derivative self-assembled layers on Ag surfaces
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Ag 表面二乙炔单羧酸衍生物自组装层的共振拉曼过程和通过 632.8 nm 照射的光诱导相变
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keunchang Cho
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Joo;J. Lim;Keunchang Cho
