Strain analysis of arsenic-doped silicon using CBED rocking curves of low-order reflertiong
Strain analysis of arsenic-doped silicon using CBED rocking curves of low-order reflertiong
复制标题
使用低阶反射的 CBED 摇摆曲线进行砷掺杂硅的应变分析
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Kenji Tsuda
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yuuji TUJIKO;Makoto KAWAMURA;太田 泰雄;Yasuo OHTA;Ralf Theissmann;Kenji Tsuda;Ralf Theissmann;Kenji Tsuda
